昭和電工2016年12月5日宣布，在用作液晶及半導體清洗劑的高純度溶劑“Solfine”系列中開發出了新級別產品，將在德山事業所(日本山口縣周南市)新設精煉設備。新級別產品的純度達到99.95wt%以上，原級別產品則為99.50wt%以上。該公司將把新級別產品主要作為半導體光刻膠用溶劑來供應。

　　新級別產品的水分從原來的0.10wt%以下減至0.01wt%以下。金屬保證項目從18項增至26項，金屬保證級別從1.0wtppb以下提高到0.1wtppb以下。每mL的顆粒(0.1μm)數量從500個以下減少至100個以下。

　　新設備將從半導體光刻膠領域中需求有望擴大的環已酮以及多種溶劑開始生產，陸續擴充產品線。除了用中小型容器供貨之外，還將實現大型容器的裝運，比如利用原來被認為難以保持品質的槽罐車等。

　　隨著半導體集成度不斷提高，用戶對光刻膠中占90%構成比例的溶劑也提出了品質改善要求。因此，昭和電工以實現超高純度溶劑為目標，開始實施技術驗證并考慮設置相關設備。由于試制品獲得了可靠的成果，因此該公司決定為新級別產品新設精煉設備。